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韓國開建超純水示范工廠:每天生產(chǎn) 2400 噸,用于半導(dǎo)體芯片制造

2021-11-18 10:55 IT之家

導(dǎo)讀:新工廠將驗(yàn)證工業(yè)用超純水制造相關(guān)的各項(xiàng)技術(shù),其中包含用于有機(jī)物去除的 UV 氧化系統(tǒng),用于去除溶解氧的脫氣系統(tǒng),以及相關(guān)設(shè)備和施工方式。

根據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 報(bào)道,韓國環(huán)境部于 11 月 16 日在 SK Silitron 工廠舉辦了超純水示范工廠的奠基儀式。新工廠將驗(yàn)證工業(yè)用超純水制造相關(guān)的各項(xiàng)技術(shù),其中包含用于有機(jī)物去除的 UV 氧化系統(tǒng),用于去除溶解氧的脫氣系統(tǒng),以及相關(guān)設(shè)備和施工方式。

韓國開建超純水示范工廠:每天生產(chǎn) 2400 噸,用于半導(dǎo)體芯片制造

新工廠建在半導(dǎo)體制造商的工廠內(nèi),在技術(shù)驗(yàn)證期間也能供應(yīng)超純水,韓國計(jì)劃在 2025 年之前完成技術(shù)驗(yàn)證,目的是減少對(duì)于外國技術(shù)的依賴。

這家工廠的目標(biāo)是每天生產(chǎn) 2400 噸超純水,此外遠(yuǎn)期目標(biāo)是將生產(chǎn)和運(yùn)營過程中進(jìn)口設(shè)備的使用率降低至 0%,技術(shù)和設(shè)備采購方面的進(jìn)口依賴程度降低到 40%。

據(jù)了解,超純水是半導(dǎo)體芯片制造過程中必不可少的,臺(tái)積電每天需要用到大量的超純水對(duì)晶圓表面進(jìn)行清潔。這種水內(nèi)部的有機(jī)物含量需要低于 0.01ppm(百萬分之一)。此前,韓國一直依賴從法國和日本進(jìn)口超純水。

外媒預(yù)計(jì),與電子、醫(yī)藥、鋼鐵、半導(dǎo)體相關(guān)的全球超純水市場,預(yù)計(jì)到 2024 年將達(dá)到 23 萬億韓元(約 1244 億元人民幣)。其中半導(dǎo)體相關(guān)的超純水市場規(guī)模,估計(jì)會(huì)達(dá)到 4.4 萬億韓元(約 238 億元人民幣)。